先進(jìn)半導(dǎo)體硅片制造與光刻工藝對工藝氣體純凈度有著ji致嚴(yán)苛的標(biāo)準(zhǔn),氮?dú)狻鍤狻⒐柰榈瘸呒儦怏w中微量水分會直接造成晶圓氧化、光刻膠失效、電路圖形畸變,大幅降低芯片良率,美國 EdgeTech 冷鏡露點(diǎn)儀 DewMaster 憑借基準(zhǔn)級冷鏡測量技術(shù),搭配 X3 系列 316 不銹鋼耐腐蝕傳感器,成為半導(dǎo)體產(chǎn)線低 ppmv、極低露點(diǎn)在線監(jiān)測的核心設(shè)備。

美國 EdgeTech 冷鏡露點(diǎn)儀 DewMaster 采用無漂移主方法冷鏡檢測原理,區(qū)別于易漂移的氧化鋁、電容式傳感器,儀器自帶光學(xué)自動平衡校正功能,可抵消鏡面微量污染物帶來的測量偏差,標(biāo)準(zhǔn)測量精度可達(dá) ±0.2℃露點(diǎn),高精度選配模式下精度提升至 ±0.1℃,能夠精準(zhǔn)捕捉 ppb 級微量水汽波動,wan美匹配半導(dǎo)體產(chǎn)線對超低水分的檢測需求。在硅片光刻工序中,EUV、DUV 光刻機(jī)內(nèi)部保護(hù)氣、吹掃氣露點(diǎn)需穩(wěn)定維持在 - 70℃以下,硅烷等反應(yīng)特氣露點(diǎn)要求低至 - 90℃區(qū)間,普通露點(diǎn)儀難以穩(wěn)定覆蓋該量程,而美國 EdgeTech 冷鏡露點(diǎn)儀 DewMaster 的 X3 液冷型號zui低可測 - 90℃霜點(diǎn),可穩(wěn)定監(jiān)測 0.1~999999 ppmv 全區(qū)間水蒸氣含量,為光刻、沉積、刻蝕全流程筑牢干燥防線。
半導(dǎo)體工藝氣體包含硅烷等具有輕微腐蝕性的特種介質(zhì),普通鋁制傳感器易被介質(zhì)侵蝕、氣路吸附水汽造成數(shù)據(jù)失真,美國 EdgeTech 冷鏡露點(diǎn)儀 DewMaster X3 耐腐蝕流通傳感器整機(jī)采用 316 不銹鋼材質(zhì),氣路內(nèi)壁潔凈無吸附,耐化學(xué)腐蝕,最高耐壓 300psi,適配高純氮?dú)狻鍤狻⒐柰榈雀黝愲娮犹貧忾L期在線監(jiān)測。美國 EdgeTech 冷鏡露點(diǎn)儀 DewMaster X3 細(xì)分多款冷卻配置,X3F 風(fēng)冷款可實(shí)現(xiàn) - 60℃低溫露點(diǎn)測量,X3LC、X3CC 液冷型號依靠二次制冷,分別達(dá)成 - 80℃、-90℃極限霜點(diǎn)檢測,專門針對超純氣體低 ppmv 微量水分工況設(shè)計,完mei解決硅烷輸送管路、高純氬氣供氣柜、氮?dú)飧纱祾呦到y(tǒng)的水分監(jiān)控難題。
整條半導(dǎo)體產(chǎn)線從大宗氣體站、特氣柜到光刻機(jī)腔體,均可部署美國 EdgeTech 冷鏡露點(diǎn)儀 DewMaster。儀器支持遠(yuǎn)程分體安裝,傳感器最遠(yuǎn)可與主機(jī)相隔 76 米,適配潔凈車間復(fù)雜管路布局;配備 4~20mA、RS232 多類型輸出,可直接對接工廠 PLC 控制系統(tǒng),搭配可編程報警繼電器,露點(diǎn)超標(biāo)時自動預(yù)警,及時阻斷不合格氣體流入光刻、硅片加工工序。
長期運(yùn)維層面,美國 EdgeTech 冷鏡露點(diǎn)儀 DewMaster 鏡面結(jié)構(gòu)簡單易清潔,傳感器更換周期長,大幅降低無塵車間維護(hù)頻次。依托 NIST 可溯源校準(zhǔn)體系,美國 EdgeTech 冷鏡露點(diǎn)儀 DewMaster 測量數(shù)據(jù)具備quan威可信度,既能用于產(chǎn)線在線實(shí)時監(jiān)控超高純氣體水分,也可作為比對標(biāo)準(zhǔn)校驗(yàn)現(xiàn)場小型露點(diǎn)變送器,是 8 英寸、12 英寸晶圓廠管控氮?dú)狻鍤狻⒐柰榧兌龋U瞎饪膛c硅片制造良率不ke或缺的精密檢測設(shè)備